如(ru)何制作顯微鏡彩色濾(lv)光片(pian)

更新時(shi)間：2017-06-29

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　LCD面板(ban)之(zhi)所以能夠(gou)產(chan)生色彩(cai)的(de)變化，主要是(shi)來(lai)自(zi)彩(cai)色濾(lv)光片(pian)(Color Filter; CF);所謂液(ye)晶(jing)面板(ban)是(shi)透過(guo)驅動(dong)IC的電(dian)壓改變，使液(ye)晶(jing)分子(zi)排排(pai)站立或(huo)呈(cheng)扭轉(zhuan)狀(zhuang)，形成(cheng)閘門(men)來(lai)選擇背(bei)光(guang)源光(guang)線(xian)穿(chuan)透(tou)與否，因而(er)產(chan)生畫面，此(ci)時(shi)所呈(cheng)現(xian)的畫面只(zhi)有黑(hei)、白兩(liang)色，另外，還(hai)需透過(guo)彩(cai)色濾(lv)光片(pian)的紅(R)、綠(lv)(G)、藍(B)三(san)種(zhong)彩(cai)色(se)層提(ti)供色相，形成(cheng)彩色(se)顯示(shi)畫面。

　　彩(cai)色(se)濾(lv)光片(pian)制造(zao)方(fang)法(fa)包(bao)括染色(se)法、顏(yan)料(liao)分散法(fa)、印(yin)刷法(fa)、電(dian)鍍法(fa)、噴墨(mo)法等(deng)，其中顏(yan)料(liao)分散法(fa)由(you)於(yu)在(zai)顏色(se)特(te)性(xing)、質(zhi)量(liang)、可(ke)*度等(deng)方面均占(zhan)有優(you)勢，因此(ci)成(cheng)為目前(qian)彩(cai)色(se)濾(lv)光片(pian)之(zhi)主流制作方(fang)式，而所(suo)謂顏(yan)料(liao)分散法(fa)之(zhi)彩色濾(lv)光片(pian)制造(zao)工(gong)程，包(bao)括黑色(se)矩陣工(gong)程、RGB工(gong)程、後工(gong)程、出貨(huo)工(gong)程，首先在黑色(se)矩陣工(gong)程，是(shi)先在(zai)無堿之(zhi)硼(peng)玻璃(li)基板(ban)上以濺(jian)鍍形成(cheng)氧化鉻/鉻之(zhi)低反射二(er)層膜(mo)，作為基板(ban)使用(yong)，此(ci)低反射二(er)層膜(mo)即(ji)稱為Metal Black，然(ran)後，再(zai)將(jiang)Metal Black側之(zhi)正(zheng)型光(guang)阻以(yi)旋轉(zhuan)塗布(bu)(Spin Coating)，再(zai)經(jing)由黑(hei)色(se)矩(ju)陣的(de)光(guang)罩(zhao)圖(tu)案(an)，照射紫(zi)外線(xian)並加(jia)以曝光(guang)、光(guang)阻顯影(ying)後(hou)，將Metal Black蝕刻，形成(cheng)黑色(se)矩陣(BM)圖(tu)案(an)，之(zhi)後，在黑色(se)矩(ju)陣之(zhi)圖(tu)案(an)形成(cheng)後，接著(zhe)再(zai)到(dao)RGB工(gong)程，所謂RGB工(gong)程就(jiu)是(shi)在開(kai)口部(bu)形成(cheng)R、G、B三(san)色圖(tu)案(an)的工(gong)程，首先將著(zhe)色(se)為R的彩(cai)色(se)光(guang)阻以(yi)Spin塗裝(zhuang)，經(jing)由R用(yong)圖(tu)案(an)光罩(zhao)，照(zhao)射紫(zi)外線(xian)並曝光(guang)，再(zai)使用(yong)堿性(xing)系(xi)顯影(ying)劑將(jiang)未曝光(guang)部(bu)份去除，形成(cheng)*顏色(se)用(yong)的(de)R圖(tu)案(an)，再(zai)施於(yu)攝(she)氏(shi)200度以上的後(hou)烤(Post Coating)，使圖(tu)案(an)具有耐(nai)藥(yao)性(xing)，接著(zhe)以(yi)形成(cheng)R圖(tu)案(an)相同的(de)工(gong)程重復(fu)在G及(ji)B上，各圖(tu)案(an)之(zhi)間均有黑(hei)色(se)矩陣加(jia)以(yi)隔開(kai)，此(ci)功能(neng)是(shi)為增加(jia)顯示(shi)時之(zhi)對(dui)比(bi)度及避免雜(za)色(se)光(guang)產(chan)生，接著(zhe)，在(zai)後工(gong)程方面，是(shi)形成(cheng)TFT Array基板(ban)之(zhi)相對(dui)電(dian)極(ji)的ITO透(tou)明(ming)電(dian)極(ji)層，即(ji)為彩色(se)濾(lv)光片(pian)，zui後，出貨(huo)工(gong)程即(ji)為zui後檢查(zha)及(ji)捆(kun)包(bao)。

　　彩(cai)色濾(lv)光片(pian)制程技術(shu)關(guan)鍵(jian)須註意的是(shi)RGB三(san)色間的(de)段差(cha)，段差(cha)會(hui)影響到(dao)液(ye)晶(jing)表現(xian)，段差(cha)如(ru)過(guo)大(da)則顯示(shi)會有斷(duan)層產(chan)生，另外，RGB工(gong)程為高(gao)溫(wen)制程，因此(ci)原(yuan)材(cai)料(liao)選擇(ze)須有耐(nai)藥(yao)性(xing)不會(hui)發(fa)生衰退，再(zai)則BM主(zhu)要為隔絕(jue)RGB三(san)顏色，為提(ti)高(gao)顏(yan)色對(dui)比(bi)的關(guan)鍵(jian)，且BM壹(yi)般(ban)均要(yao)求低反射，反射愈(yu)低愈(yu)好(hao)，色彩(cai)表(biao)現(xian)也會愈(yu)好(hao)。